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實現(xiàn)微區(qū)更高靈敏度分析的技術(shù)

1　高亮度肖特基發(fā)射體
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析的穩(wěn)定大電流。

2　 EPMA專用電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)，交叉點不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的。簡單的透鏡結(jié)構(gòu)，既能獲得大束流，同時全部電流條件下設(shè)定更合適的打開角度，將電子束壓縮到更細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。

3　更高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

4　高靈敏度X射線譜儀
至多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時，又可減小樣品對X射線的吸收，實現(xiàn)高靈敏度的分析。

特點

空間分辨率
EPMA可達(dá)到的更高級別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下的二次電子分辨率。
（加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）
大束流更高靈敏度分析
實現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的超大束流。
全束流范圍無需更換物鏡光闌。
至多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角。
4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
至多可同時搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。
全部分析操作簡單易懂
全部操作僅靠一個鼠標(biāo)就可進行的可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面。
搭載導(dǎo)航模式，自動指引直至生成報告。

進口現(xiàn)貨Shimadzu島津 EPMA-8050G 電子探針顯微分析儀
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